隨著半導體工業(yè)的迅猛發(fā)展,對超純水的要求和標準也在不斷提升。特別是在制造集成電路時,即使是幾個金屬離子或灰塵顆粒也足以導致整個電路報廢。因此,作為半導體工業(yè)中重要的電子化學試劑之一,超純水的生產制備越來越受到重視。
目前,在市場上常見的超純水工藝中,傳統(tǒng)的離子交換工藝逐漸被反滲透工藝所取代。這是因為反滲透工藝無需樹脂再生,能夠實現24小時連續(xù)產水,并且在制水過程中不會產生廢酸、廢堿等有害排放物。萊特萊德公司推出的超純水設備采用了先進的Ryperm技術反滲透裝置,提升系統(tǒng)的出水水質。
萊特萊德致力于為用戶提供高品質的超純水解決方案,有效解決了傳統(tǒng)超純水生產過程中能耗大、步驟繁瑣、成本高、產品純度低以及質量不穩(wěn)定等問題。通過采用簡潔高效的生產工藝流程,實現了連續(xù)大規(guī)模生產,同時保證了處理效率高、配置合理有效,并具備顯著的經濟性和環(huán)保優(yōu)勢。
工藝流程:
利用超濾膜去除水中的懸浮物及部分有機物,反滲透系統(tǒng)去除大部分溶解性固體,提高水質純凈度; TOC裝置用于去除水中殘留的有機碳化合物;EDI系統(tǒng)深度脫鹽并去除微量離子;氮封系統(tǒng)通過充入氮氣防止空氣中的污染物進入系統(tǒng);脫氣系統(tǒng)排除水中可能存在的氣體雜質;靶向離子交換可以針對難以去除的特定離子如硼進行定向吸附;終端過濾確保出水無任何微粒污染。
其中,萊特萊德特別設計了獨特的靶向離子交換系統(tǒng),專門針對超純水中難以處理的硼離子等進行高效去除,保證出水中的硼離子濃度穩(wěn)定低于5ppt。整套系統(tǒng)集成度非常高,配備了雙操作系統(tǒng)以增強穩(wěn)定性。這使得即使是在長時間運行條件下也能保持高純度超純水的持續(xù)穩(wěn)定產出,而無需因樹脂再生等原因停機維護。此外,設備日常保養(yǎng)簡便易行,具有較長的使用壽命。
總之,萊特萊德憑借其創(chuàng)新的技術方案和卓越的產品性能,在推動半導體及相關領域向著更加高效、綠色的方向發(fā)展方面發(fā)揮著重要作用。
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編輯:虞美人 技術:加菲
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